PECVD（プラズマ増強化学気相成長法）：強い電界（グロー放電）または磁場を利用して、所望のガス源分子をイオン化してプラズマを生成し、プラズマには多くの高活性化学基が含まれています。これらの基は、一連の化学およびプラズマ反応を経て、サンプル表面に固体薄膜を形成します。

その主な機能は、太陽電池とシリコンウェーハの表面にSINフィルムをメッキすることであり、このフィルムは太陽光の反射率を低減し、光電変換効率を高めることができます。それはまた、良好な抗酸化および絶縁特性を有し、同時に、金属および水イオン拡散の良好な能力、良好な化学的安定性を有し、フッ化水素酸と熱リン酸に加えて、ゆっくりと腐食することができ、他の酸は基本的に機能しません。