PECVD (плазменное усилимое химическое газовое осаждение): использование сильного электрического поля (свечивающего разряда) или магнитного поля для ионизации необходимых молекул источника газа для создания плазмы, в которой содержится множество высокоактивных химических групп, которые проходят через серию химических и плазменных реакций, образуя твердые пленки на поверхности образца.

Его основная роль заключается в покрытии солнечных батарей и кремниевых пластин на поверхности SIN пленки, этот плен может уменьшить коэффициент отражения солнечного света и повысить эффективность фотоэлектрического преобразования.Он также обладает хорошими антиоксидантными и изоляционными свойствами, а также хорошей маскирующей способностью к распространению металлов и ионов воды, хорошей химической стабильностью, за исключением гидрофторуарной кислоты и термофосфорной кислоты, которые могут медленно коррозировать, другие кислоты в основном не работают.